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行程关广泛用于各类机床和起重机械，用以控制其行程，进行终端限位保护。在电梯的控制电路中，还利用行程关来控制关轿门的速度，自动关门的限位，轿厢的上，下限位保护。简称静物）上或者运动的物体（如行车，门等，简称）上。当接近静物时，关的连杆驱动关的接点引起闭合的接点分断或者断的接点闭合。由关接点。门框等行程关可以在相对静止的物体（如固定架合状态的改变去控制电路和机 1/511具代表力，这些产品有结构简单，功能实用，价格低廉的优势深受广大使用者的青睐。常规行程关 K3系列中的LXK3-20S/T。

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采用智能化控温系统，移相触发，可控硅控制，炉采用氧化铝多晶纤维材料，保温效果好，双层壳体结构，带有风冷和水冷系统，能快速降温，炉门配有循环水冷，防止密封圈过快老化，保炉门与炉胆的可靠密封。主要用途和适用范围\可应用于电子元器件，新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热工艺。也用于冶金，机械，轻工，商检，高等院校及科研部门，工矿企业电子陶瓷产品的预烧，烧结，钎焊等工艺。主要能和特点：1。产品介绍：SG-XQL1400型箱式真空气氛炉以 硅碳棒为加热元件加热元件采用 硅碳棒充气系统，温控系统进行程序控制，作简单方便， 无误。也叫切克劳斯基（J.Czochralski）方法。此法早在1917年由切克劳斯基建立的一种晶体生长方法上硅单晶的产量中70%～80%是用直拉法生产的。再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中，要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度V向上(下)运动，而且当提拉负载增大引起线速度为零时，提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。对晶体的提拉速度有十分严格的要求，从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。对提拉控制系统提出的主要技术指标是，提拉速度在0.2～10.0mm/h范围之内实现无级可调，线性精度大于±2%。生产集成电路所需要的单晶硅，是在硅结晶生长始时。